粘接資訊消息，5月20日上海新陽（300236）舉辦2021年度網(wǎng)上業(yè)績說明會，公布了多項關(guān)于其光刻膠業(yè)務(wù)進展的信息。

在業(yè)績說明會上，其表示，公司2021年完成了幾款KrF光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)、驗證并實現(xiàn)銷售，在手訂單中含有國內(nèi)主流頭部芯片制造公司等大小客戶，覆蓋鋁線制程和銅線制程，用于邏輯、模擬等芯片的生產(chǎn)制造。由于客戶對于光刻膠的使用都會比較謹(jǐn)慎，目前還都是小批量使用，所以今年的銷售額可能不會很大，但明年用量可能會增加較多，后續(xù)增長空間較大。

此外，上海新陽還透露：公司現(xiàn)在已開始進行EUV光刻膠的前期摸索性基礎(chǔ)研發(fā)，主要進行EUV光刻膠的基礎(chǔ)理論、形成機理、性能觀察、配方篩選、制備方法等基礎(chǔ)性研發(fā)工作。其還表示，公司對于光刻膠研發(fā)投入決心非常大，已進行全面布局，公司光刻膠ArF、ArF-i研發(fā)進展順利，已經(jīng)形成兩個系列試驗產(chǎn)品，樣品已經(jīng)進入客戶端進行測試。

眾所周知，光刻膠是芯片關(guān)鍵材料中的重點所在，光刻膠是光刻成像的承載介質(zhì)，其作用是利用光化學(xué)反應(yīng)的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學(xué)能量，進而完成掩模圖形的復(fù)制。

光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產(chǎn)生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。

一直以來，光刻膠都是芯片關(guān)鍵材料中的重點所在，由于國內(nèi)光刻膠領(lǐng)域起步較晚，技術(shù)嚴(yán)重落后等原因，導(dǎo)致我國半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，日美廠商占據(jù)了約87％的份額，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品進口比例高達九成。

如今上海新陽的KrF光刻膠產(chǎn)品成功打入國內(nèi)主流芯片公司，意味著國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)再獲得重大突破，實現(xiàn)國產(chǎn)替代指日可待。

上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司創(chuàng)立于1999年7月，2011年6月在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板上市。二十年來，上海新陽已申請授權(quán)國家專利210項，其中國內(nèi)發(fā)明專利102項，國際發(fā)明專利8項，開發(fā)研制出140多種電子電鍍與電子清洗系列功能性化學(xué)材料，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路制造、3D-IC先進封裝、IC傳統(tǒng)封測等領(lǐng)域，是中國半導(dǎo)體功能性化學(xué)材料和應(yīng)用技術(shù)與服務(wù)的知名品牌。公司已立項研發(fā)集成電路制造用高分辨率193nm ArF光刻膠及配套材料與應(yīng)用技術(shù)，擁有完整自主可控知識產(chǎn)權(quán)的光刻膠產(chǎn)品與應(yīng)用即將形成公司的第三大核心技術(shù)，公司在國內(nèi)半導(dǎo)體功能性化學(xué)材料領(lǐng)域的地位將更加穩(wěn)固。

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