揪心!日本光刻膠巨頭放話:即使獲知成分,中國也做不出EUV光刻膠

        2022/5/27 16:10:30??????點擊:

        據(jù)英國《金融時報》報道,近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克?約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪時表示,盡管中國大陸在努力推動芯片的自給自足,但中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必要的基礎(chǔ)設(shè)施不足,比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù),發(fā)展先進(jìn)制程的芯片制造技術(shù)將非常困難。


        約翰遜做出這一表態(tài)之際,正值拜登開展亞洲之行。5月20日,拜登和美國商務(wù)部長雷蒙多等人抵達(dá)韓國后,直接前往三星最先進(jìn)的3納米工廠參觀,EUV光刻機(jī)是實現(xiàn)這種工藝必不可少的設(shè)備,拜登在現(xiàn)場強調(diào)“要保證半導(dǎo)體供應(yīng)鏈穩(wěn)定”。


        拜登參觀三星電子的3納米工廠


        總部位于東京的JSR是一家領(lǐng)先的光刻膠供應(yīng)商,成立于1957年,中文名為日本合成橡膠,是最早量產(chǎn)EUV光刻膠的廠商之一,產(chǎn)品線也最健全,全球市場占有率約在30%至40%,其主要客戶包括三星、臺積電和英特爾。中國作為全球最大的芯片進(jìn)口國,是JSR增長戰(zhàn)略的重要組成部分。


        第三方數(shù)據(jù)顯示,截至2021年,JSR是全球僅有的四家EUV光刻膠供應(yīng)商之一,這種光刻膠應(yīng)用于EUV光刻環(huán)節(jié),是制造最先進(jìn)芯片必不可少的材料。另外,JSR在ArF光刻膠領(lǐng)域以24%的市場份額位居全球第一;在整個光刻膠領(lǐng)域,JSR以13%的市場份額位居世界第三,日本東京應(yīng)化和美國陶氏化學(xué)分列第一和第二。



        埃里克?約翰遜目前擔(dān)任JSR的CEO,也是日本公司中為數(shù)不多的美國高層。約翰遜指出,“中國也非常想發(fā)展自己的EUV(極紫外光刻)能力和相關(guān)的生態(tài)系統(tǒng)(比如EUV光刻膠)。但坦率地說,我認(rèn)為他們要做到這一點非常困難?!?/span>


        更刺激國人的一句話來了,他稱即使中國“得到了一份關(guān)于化學(xué)成分究竟是什么的論文……要在純度、精度和再現(xiàn)性方面進(jìn)行制造是非常困難的”,因為“事情沒那么簡單,他們也沒有供應(yīng)鏈來支持這一點......開發(fā)尖端能力需要數(shù)十年時間和大量資金?!?/span>



        不過,Eric Johnson也指出,中國方面正在積極投資不那么先進(jìn)的芯片制造技術(shù),這些技術(shù)也很重要。“中國有很多不依賴于這些非常前沿能力的機(jī)會,人們沒有充分認(rèn)識到這一點?!?/span>


        財報顯示,在截至2021年3月31日的財年中,JSR在中國市場實現(xiàn)營收6.62億美元(約合人民幣44.08億元),占總營收的比重為16.41%,中國是該公司第二大市場


        JSR財報截圖


        約翰遜指出,中國是JSR增長戰(zhàn)略的重要組成部分。但他同時提到,希望能夠在“尊重”和“負(fù)責(zé)任地”為中國客戶提供服務(wù)的同時,兼顧“對美國政府的關(guān)切以及對保護(hù)日本利益的關(guān)切”。



        圖:阿斯麥CEO溫彼得


        針對約翰遜提到的EUV技術(shù),實際上,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)CEO溫彼得也在今年1月表達(dá)過和約翰遜類似的觀點,認(rèn)為“中國不太可能復(fù)制出頂尖的EUV光刻機(jī)”。但他當(dāng)時補充稱,永遠(yuǎn)別那么絕對,中國的物理定律和全世界是一樣的,“他們肯定會嘗試”。


        這些話聽著都讓人揪心,但卻道出了中國正面臨著的殘酷事實。


        目前,在全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域,主要被日本合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、美國杜邦、日本信越化學(xué)、富士電子、羅門哈斯等頭部廠商所壟斷,其中JSR占據(jù)了28%的市場。而在高端半導(dǎo)體光刻膠市場上,JSR在ArF光刻膠領(lǐng)域以24%的市場份額位居全球第一。在EUV光刻膠方面,TOK和JSR有較高的份額。


        從國內(nèi)的光刻膠市場來看,低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%,KrF光刻膠自給率不足5%,而高端的ArF光刻膠完全依賴進(jìn)口,是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技術(shù)之一。至于EUV光刻膠,由于美國的阻撓,國內(nèi)目前無法進(jìn)口EUV光刻機(jī),因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起。

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