近日 華為手機(jī) mate 60 pro 發(fā)布，采用華為自己的9000s芯片，為全世界帶來了一片驚訝?？ú弊拥墓饪虣C(jī)和光刻技術(shù)，究竟是怎么回事，華為又是如何突破的，現(xiàn)在還是人們心中的一個(gè)疑問，今天我們來全方位的了解一下光刻機(jī)技術(shù)中的光刻膠相關(guān)內(nèi)容。

    首先來認(rèn)識(shí)一下光刻膠：

    光刻膠主要組分分為樹脂、感光劑、溶劑及表面活性劑等添加劑。溶劑主要使光刻膠各組分分散其中，使光刻膠具備流動(dòng)性，當(dāng)前半導(dǎo)體和面板光刻膠所用溶劑主要為PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯，亦簡(jiǎn)稱PMA）；樹脂與感光劑搭配使用，是光刻膠發(fā)揮感光作用的主要功能組分，不同類型的光刻膠其樹脂和感光劑的成分有很大差別，依感光波長(zhǎng)由長(zhǎng)到短主要為酚醛樹脂-重氮萘醌體系（g線/i線）、對(duì)羥基苯乙烯-光致產(chǎn)酸劑體系（KrF）、丙烯酸酯-光致產(chǎn)酸劑體系（ArF）、分子玻璃或金屬氧化物體系（EUV）。其他添加劑包括表面活性劑、穩(wěn)定劑等。

各類光刻膠中雖然各組分含量存在差異，但樹脂含量一般在20%以下，總體來適用波長(zhǎng)越短的光刻膠，其樹脂含量越低，溶劑含量越高：g線/i線膠的樹脂含量在10-20%左右，KrF膠樹脂含量在10%以下，ArF膠及EUV光刻膠的樹脂含量通常在5%以下。

光刻膠的另一重要組分即為感光劑，g線/i線膠及面板膠會(huì)使用包括DNQ（重氮萘醌）在內(nèi)的光引發(fā)劑作為感光劑，而基于化學(xué)放大法的現(xiàn)代半導(dǎo)體光刻膠（KrF、ArF、EUV）均使用光致產(chǎn)酸劑作為主要的感光組分。

除樹脂和感光劑外，溶劑和其他添加劑如流平劑、表面活性劑等，主要作用為使光刻膠形成均勻分散的溶液體系，其中各品種光刻膠所用溶劑絕大多數(shù)為丙二醇甲醚乙酸酯，海外簡(jiǎn)稱PGMEA，國(guó)內(nèi)又簡(jiǎn)稱PMA。

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